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蒸鍍生產(chǎn)線(xiàn)

產(chǎn)品特點(diǎn)

真空過(guò)渡分為1000Pa、1Pa、10-4Pa三級,異于10Pa、10-4Pa兩級模式,最大優(yōu)化羅茨泵在1000Pa~1Pa的抽氣效率,降低設備低真空段的泵組配置,減少設備能耗節約成本。

采用低溫泵在鍍膜前進(jìn)行樣片運送時(shí)水汽的收集,抽氣效率高,對設備場(chǎng)地濕度要求降低,減少生產(chǎn)建設投資。

線(xiàn)性源采用一體化加熱及模塊化坩堝拼接設計,坩堝個(gè)體尺寸小具有極小的熱變形,坩堝位置可調節具有鍍膜均勻性調節的作用。

技術(shù)參數

設備型號ZDX-300(600、1200)
極限真空8×10-5Pa
腔室功能分類(lèi)進(jìn)、出樣室(1000Pa)
低真空過(guò)渡室(1Pa)
高真空過(guò)渡室(5×10-4Pa)
蒸鍍室(5×10-4Pa)
蒸發(fā)源類(lèi)型線(xiàn)性源:室溫~700℃,水冷
蒸發(fā)距離120~300mm

技術(shù)參數

樣品幅寬300、600、1200mm
常用蒸發(fā)材料C60、BCP、LiF、PbI2、CsBr、Cu等
鍍膜節拍≥60s
連續運行時(shí)間≥300h
≥50h(C60、1A/s)
膜厚均勻性≤±5%
鍍膜速率穩定性≤±0.1A/s
鍍膜時(shí)樣品溫度≤60℃

技術(shù)優(yōu)勢

針對電子傳輸層(C60)蒸發(fā)鍍膜設備
針對C60蒸發(fā)材料吸附氧、水汽對蒸鍍穩定性的影響,在鍍膜室進(jìn)行預蒸發(fā)處理、深冷收集等處理,提高C60蒸鍍溫度穩定性,延長(cháng)連續鍍膜時(shí)間。
線(xiàn)性源根據C60特性,蒸發(fā)口采用不遮擋方式,蒸發(fā)速率更快、減少冷凝載體面積、穩定性更好。

技術(shù)優(yōu)勢

針對鈣鈦礦層共蒸發(fā)鍍膜設備
兼容2-3源共蒸發(fā)
共蒸發(fā)源具有2種工作模式,同步混合鍍膜,分層交替鍍膜,針對不同材料的物理特性具有更好的兼容性和共蒸發(fā)效果。
線(xiàn)性源mask具有多孔、狹縫、寬縫等多樣化結構方式,針對不同材料的物理特性能夠分別解決:樣品降溫、減少mask冷凝、蒸發(fā)效率調控、發(fā)散角調控等問(wèn)題。
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